Lúgos textúrázás monokristályos szilícium napelemhez

Oct 02, 2021

Hagyjon üzenetet

Forrás: pv-manufacturing.org


A napelemek gyártása során a PV ipar multikristályos és egykristályos szilíciumlapkákra támaszkodik. Ezek együttesen az iparban használt összes ostya hordozóanyag közel 90% -át teszik ki. Az ugyanazon ostyán belüli eltérő szemcse-orientációk miatt a lúgos maratás nem használható a többkristályos szilícium textúrázására, mivel ez azt eredményezné, hogy a felület nem egyenletes textúrájú lesz, mivel a különböző szemcsék különböző sebességgel maratnak. A monokristályos szilícium ostyák [100] orientációval az iparágban a legelterjedtebb monokristályos ostyatípusok, mivel könnyen textúrázhatók lúgos maró, például KOH segítségével. A szilícium egy gyémánt köbös rácsban kristályosodik (két egymásba hatoló, arcközpontú köbös rács), és az 1. ábrán látható. Az 1. ábra kék, zöld és piros vonalai a [100], [110] és [111] repülőgépek, ill.

Etching_planes

1.ábraA szilíciumkristály gyémánt köbös rácsának ábrázolása és a különböző síkok ábrázolása színes vonalakkal.

1.ábraA szilíciumkristály gyémánt köbös rácsának ábrázolása és a különböző síkok ábrázolása színes vonalakkal.

Az alkáli maratók jóval gyorsabban maratják [100] a szilícium felületeket, mint a [111] szilícium felületek, ami a piramis textúra előállításához használt anizotróp maratási folyamat alapja. A fő különbség a fűrészkárosodás és a textúrázás között a maratási sebesség. A folyamat anizotrópiájának növelése érdekében a maratási sebességnek alacsonynak kell lennie, azaz 2 µm/perc vagy alacsonyabb. Az alacsonyabb maratási sebességek elérése érdekében vagy csökkenteni lehet a folyamat hőmérsékletét, és/vagy csökkenteni lehet a maró koncentrációját. Például egy tipikus textúrázási recept, amely 1-2% KOH koncentrációt használ (szemben a fűrészkár eltávolításának 30-40% -os koncentrációjával) 70-80 ° C-on. Az eredmény egy véletlenszerűen kiválasztott négyzet alapú piramisokkal benépesített felület, amelynek oldalait [111] sík alkotja, és az alap a [100] sík. Ezt a 2. ábra szemlélteti. A valóságban a maratott piramisok nem tökéletes négyzet alapú tetraéderek, a-nak 54,74 ° -os alapszöggel. A legtöbb ipari textúrázási eljárásnál a 49 és 53 ° között van. Ennek oka, hogy a piramis csúcsa a leghosszabb ideig maratott.

dummy_texture_Crosssection_w10tilt_8K_02

2. ábraVéletlen négyzet alakú piramisok a szilícium felületén. Az alapszéle 5-6 µm.

A texturáló oldat izopropanolt (vagy más ipari adalékanyagot) is tartalmaz. Az izopropanol felületaktív anyagként működik, amely fokozza a felület nedvesítését és biztosítja, hogy a H2a gáz (a maratás által felszabaduló) nem tapad a felülethez. Ha nem használnak izopropanolt, kerek „dombok” alakulhatnak ki a H miatt2buborékok, amelyek blokkolják a maratás sebességét a felületen. Az izopropil csökkenti a felületi feszültséget és lehetővé teszi a H -t2buborékok könnyebben felszabadulnak a felületről.

A textúrázás minőségét számos tényező befolyásolja:

  • A textúrázás eredménye a kezdeti felülettől függ.

    • Az eljárás érzékeny a fűrész sérülésének maratásából származó maradék szilikátok jelenlétére.

  • Egyensúly a piramismagképződés és a piramispusztítás között.

    • A túlzott maratás a piramisok pusztulásához vezethet.

  • Az izopropanol elpárolog, miután a fürdő hőmérséklete elérte a 90 ° C -ot.

    • Az izopropanol nedvesítő funkcióval rendelkezik - megakadályozza a H2 buborékok feltapadását.

    • A szellőzés fontos, de befolyásolhatja az izopropanol párolgási sebességét

    • A folyamat jellemző időtartama 15-20 perc, ezért figyelni kell a párolgási sebességre.

  • Tételkeringés - buborékolás N -vel2segíthet a fürdőkomponensek jó keverésében.

A helyes textúrálás azért fontos, mert a felületi textúra közvetlenül összefügg a napelem fény- és áramgeneráló képességével. A felületek textúrázása három különböző mechanizmus révén javítja a cellaáramot.

  1. A fénysugarak egyik szögletes felületről a másikra való visszaverődése javítja az abszorpció valószínűségét.

  2. A szilíciumba törött fotonok szögben terjednek, növelve a tényleges úthosszukat a cellán belül, ami viszont növeli az elektron-lyuk párképződés esélyét.

  3. A hátsó felületről visszaverődő hosszú hullámhosszú fotonok szögletes szilíciumfelülettel találkoznak, javítva a belső visszaverődés esélyét (fénycsapda)

A jó textúrázásnak alacsonyabb fényvisszaverő képességhez kell vezetnie a teljes látható hullámhossztartományban.

Etch duration.png

A 6. ábrán a különböző maratási idők eltérő fényvisszaverő képességét ábrázoljuk a hullámhossz függvényében. Az optimális textúrázás érdekében a piramisok méretének 3-10 µm-nek kell lennie (az él szélessége a tövénél), és a felület borításának közel 100%-nak kell lennie.




A szálláslekérdezés elküldése
A szálláslekérdezés elküldése